硅片表面球形粒子散射研究

• 作者: 曹楷 程兆谷 高海军
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅片 散射 米氏理论 杨氏模型 微分散射截面
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 波导与集成光学
• 页码范围: 517-520
• 页数: 4页
• 分类号: TN247
• 字数: 1791字
• 语种: 中文

摘要

为求解硅片表面微小粒子在任意线偏振平面入射光照射下的散射光光强分布,选择了基于Mie散射的杨氏模型为依据,推导了该模型下散射光强空间分布的计算方法,并给出了0.54 μm球形粒子在垂直、倾斜入射下光强空间分布的模拟计算结果,以及入射平面第一象限内散射光强与国外已发表实验结果的比较.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程兆谷	中国科学院上海光学精密机械研究所	36	430	13.0	20.0
2	高海军	中国科学院上海光学精密机械研究所	30	610	13.0	24.0
3	曹楷	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	9	1.0	2.0