稳定线宽的过曝光控制

• 作者: 杨国光 梁宜勇 章哲明 闫玮 顾智企
• 来源期刊: 浙江大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 过曝光 高斯光束 曝光量 线宽
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 无线电电子学、电信机技术
• 页码范围: 49-52
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2794字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2006.01.012

摘要

在利用激光图形发生器制备微细图形时,为获得稳定的线条宽度,提出一种对薄胶层进行过曝光的技术.准直光束经物镜会聚后光斑的能量呈近似高斯分布,当胶层的曝光量阈值远离高斯型曝光量曲线的头部时,可以弱化线宽对实际曝光量或胶层曝光量阈值等变化的敏感度,从而提高线宽的稳定度.在涂有0.6 μm薄胶的基片上,采用渐变曝光量的方法,利用激光束直写技术制取了一组短弧线,对线宽的测试结果表明,线宽与曝光量关系的实验性曲线和理论模型能较好地吻合.过曝光技术对线宽稳定度要求较高的器件,比如具有螺线波导的集成光学陀螺的制作有较重要价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁宜勇	浙江大学信息科学与工程学院	38	190	8.0	12.0
2	杨国光	浙江大学信息科学与工程学院	91	1226	21.0	30.0
3	顾智企	浙江大学理学院	21	35	4.0	5.0
4	章哲明	复旦大学数学科学学院	2	4	1.0	2.0
5	闫玮	浙江大学信息科学与工程学院	2	8	2.0	2.0