纳米晶碳化钨薄膜对硝基甲烷还原的电催化性能

• 作者: 王伟 赵峰鸣 郑华均 顾正海 马淳安 黄建国
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 碳化钨 纳米晶薄膜 电催化性能 硝基甲烷
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 页码范围: 1742-1745
• 页数: 4页
• 分类号: O646
• 字数: 2264字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2006.09.029

摘要

采用磁控溅射物理气相沉积技术在金属镍基体上制备碳化钨纳米晶薄膜. 薄膜具有纳米晶结构, 由粒径为20～35 nm的晶粒构成, 晶粒分布均匀, 晶相结构为非化学计量比的碳化钨(WC1-x). 采用电化学方法研究硝基甲烷在纳米晶碳化钨薄膜电极上的电化学还原性能和反应机理. 实验结果表明, 碳化钨薄膜电极对硝基甲烷电化学还原反应具有较好的催化性能, 当电极电位为-0.89 V(vs.SCE)时, 硝基甲烷还原为甲基羟胺的电流达14.9 mA/cm2, 其反应表观活化能为12.3 kJ/mol. 硝基甲烷在碳化钨薄膜电极上经过一步不可逆的电化学反应还原成甲基羟胺, 其控制步骤是电极反应的电荷传递过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑华均	浙江工业大学化学工程与材料学院纳米科学与技术工程中心	32	252	10.0	15.0
2	黄建国	浙江工业大学化学工程与材料学院纳米科学与技术工程中心	7	48	4.0	6.0
3	王伟	浙江工业大学化学工程与材料学院纳米科学与技术工程中心	36	99	5.0	9.0
4	赵峰鸣	浙江工业大学化学工程与材料学院纳米科学与技术工程中心	24	111	5.0	10.0
5	顾正海	浙江工业大学化学工程与材料学院纳米科学与技术工程中心	4	36	3.0	4.0