新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应

• 作者: 李滨松 薄志山 赵金玲
• 来源期刊: 科学通报
• 学科: 工学
• 关键词: 卟啉 共轭聚合物 光电流响应
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 524-531
• 页数: 8页
• 分类号: TQ2
• 字数: 5795字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0023-074X.2006.05.005

摘要

采用Sonogashira 偶联反应,制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物. 这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性. 其光谱性质和光电流响应结果表明,聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素,且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薄志山	中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	3	10	2.0	3.0
2	赵金玲	中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	2	3	1.0	1.0
3	李滨松	中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	1	3	1.0	1.0