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摘要:
通过反应溅射的方法,制备了N掺杂的Ge2Sb2Te5(N-GST)薄膜,用作相变存储器的存储介质.研究表明,掺杂的N以GeN的形式存在,不仅束缚了Ge2Sb2Te5 (GST)晶粒的长大也提高了GST的晶化温度和相变温度.利用N-GST薄膜的非晶态、晶态面心立方相和晶态六方相的电阻率差异,能够在同一存储单元中存储三个状态,实现相变存储器的多态存储功能.
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文献信息
篇名 氮掺杂Ge2Sb2Te5相变存储器的多态存储功能
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 相变存储器 多态存储 N掺杂 Ge2Sb2Te5
年,卷(期) 2006,(8) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 4347-4352
页数 6页 分类号 O4
字数 3117字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.08.095
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多态存储
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Ge2Sb2Te5
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物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
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1933
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