退火方式对低压电解质电容器铝箔微量元素的分布和腐蚀性能的影响

• 作者: 冯惠平 吕亚平 杨宏 毛卫民
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 铝箔 微量元素 偏聚 轧制纹 腐蚀
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 52-55
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 2871字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2006.12.015

摘要

观察了经400℃真空退火保温1 h后分别随炉冷却和空冷的低压铝箔表面的电化学腐蚀结构,检测相应的比电容,利用二次离子质谱仪检测了铝箔表面区域Mg、Si、Cu微量元素的分布.结果显示,在炉冷的条件下,微量元素在铝箔表面的浓度比空冷条件下的高,且分布比较均匀.在空冷条件下,微量元素更容易偏聚在表面的轧制纹、晶界等缺陷处,使箔样在轧制纹处出现不均匀腐蚀结构,不利于比电容的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	毛卫民	北京科技大学材料科学与工程学院	351	4505	35.0	51.0
5	冯惠平	北京科技大学材料科学与工程学院	37	535	12.0	22.0
6	杨宏	北京科技大学材料科学与工程学院	12	186	6.0	12.0
7	吕亚平	北京科技大学材料科学与工程学院	3	11	2.0	3.0