四方相纳米氧化锆低温稳定机制的研究现状

• 作者: 施剑林 李伟 杜娟 蒋丹宇 金学军
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米晶粒 氧化锆 相变
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1691-1696
• 页数: 6页
• 分类号: TQ17
• 字数: 5761字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2006.11.001

摘要

介绍了近几十年t-ZrO2纳米晶在室温下稳定机制的研究现状,并且重点分析表面能理论和氧空位理论等主要机制,在此基础上对镀膜、水蒸气、杂质离子、形核位置以及结构相似对其稳定性的影响进行进一步的讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施剑林	中国科学院上海硅酸盐研究所	72	1280	19.0	33.0
2	李伟	上海交通大学材料科学与工程学院	143	563	13.0	19.0
3	杜娟	上海交通大学材料科学与工程学院	26	88	6.0	8.0
4	蒋丹宇	中国科学院上海硅酸盐研究所	37	409	10.0	19.0
5	金学军	上海交通大学材料科学与工程学院	46	222	9.0	12.0