无机基片表面选择性制备铜线路图形

• 作者: 李梅 罗坚 路庆华 陈东升
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀 聚乙烯基吡咯烷酮 钯 紫外光刻 微图形
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 128-130
• 页数: 3页
• 分类号: TM2
• 字数: 1965字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2006.11.035

摘要

介绍了一种新型的紫外光刻体系,它由包含低分子量PVP(K30)作为稳定剂的钯胶和用作光刻胶的高分子量PVP(K90)/DAS组成.通过紫外光引发DAS分解及PVP交联、乙醇显影和高温处理在玻璃基片的表面选择性固定Pd颗粒,然后通过Pd颗粒引发化学镀,得到铜线路图形.采用扫描电镜(SEM)观察并讨论了显影时间及其对图形分辨率的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	路庆华	上海交通大学化学化工学院	58	456	10.0	19.0
2	李梅	上海交通大学化学化工学院	74	655	14.0	21.0
3	陈东升	上海交通大学化学化工学院	6	23	3.0	4.0
4	罗坚	上海交通大学化学化工学院	2	0	0.0	0.0