SU-8胶微结构的尺寸公差研究

• 作者: 刘冲 朱神渺 杜立群 秦江
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: SU-8胶 菲涅耳衍射 尺寸公差 紫外光刻
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 测试、检测与控制
• 页码范围: 1523-1526
• 页数: 4页
• 分类号: TN3
• 字数: 3449字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.056

摘要

对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究.在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上,根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型和尺寸公差模型,对SU-8微结构的尺寸及其公差进行数值模拟.以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究.实验中掩模的特征宽度分别取50 μm、100μm、200μm和400 μm,SU-8胶表面的曝光剂量分别取400mJ/cm2和800mJ/cm2,测量了SU-8胶微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,数值模拟结果与实验结果基本吻合.可以用本文的模型来预测SU-8微结构的尺寸及其公差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜立群	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	61	480	13.0	19.0
5	刘冲	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	156	1345	17.0	30.0
9	秦江	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	5	89	4.0	5.0
13	朱神渺	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	7	110	5.0	7.0