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摘要:
对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究.在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上,根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型和尺寸公差模型,对SU-8微结构的尺寸及其公差进行数值模拟.以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究.实验中掩模的特征宽度分别取50 μm、100μm、200μm和400 μm,SU-8胶表面的曝光剂量分别取400mJ/cm2和800mJ/cm2,测量了SU-8胶微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,数值模拟结果与实验结果基本吻合.可以用本文的模型来预测SU-8微结构的尺寸及其公差.
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文献信息
篇名 SU-8胶微结构的尺寸公差研究
来源期刊 传感技术学报 学科 工学
关键词 SU-8胶 菲涅耳衍射 尺寸公差 紫外光刻
年,卷(期) 2006,(5) 所属期刊栏目 测试、检测与控制
研究方向 页码范围 1523-1526
页数 4页 分类号 TN3
字数 3449字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.056
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜立群 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 61 480 13.0 19.0
5 刘冲 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 156 1345 17.0 30.0
9 秦江 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 5 89 4.0 5.0
13 朱神渺 大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室 7 110 5.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
SU-8胶
菲涅耳衍射
尺寸公差
紫外光刻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
传感技术学报
月刊
1004-1699
32-1322/TN
大16开
南京市四牌楼2号东南大学
1988
chi
出版文献量(篇)
6772
总下载数(次)
23
总被引数(次)
65542
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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