钛基多孔氧化锡纳米结构的制备

• 作者: 周刚 孙秀云 李健生 王连军 韩卫清
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 阳极氧化 钛基氧化锡 纳米孔
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2134-2138
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 3819字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.12.013

摘要

研究了采用电沉积和阳极氧化方法在钛基上制备多孔氧化锡纳米结构的技术.在3mm厚的钛片上,采用电沉积的方法首先预沉积镍层,然后沉积1μm厚高纯度锡膜作为阳极浸入0.5mol/L草酸溶液中,在直流恒压5V条件下,进行电化学氧化5min.电化学氧化处理后,分别采用扫描电镜和X射线衍射仪对样品进行了平面、横断面形貌观察和氧化产物分析.结果表明,在钛基上形成了一层厚约1μm、孔径70nm、孔间距80nm的多孔氧化亚锡薄膜,这种多孔结构薄膜可以进一步在空气中加热500℃处理2h,制成钛基氧化锡多孔材料,它也可作为制备钛基纳米复合材料的模板.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王连军	南京理工大学化工学院	195	2704	26.0	42.0
2	孙秀云	南京理工大学化工学院	113	1826	24.0	39.0
3	李健生	南京理工大学化工学院	110	1391	21.0	31.0
4	韩卫清	南京理工大学化工学院	23	280	9.0	16.0
5	周刚	南京理工大学化工学院	4	36	3.0	4.0