钛表面原位生长TiO2膜及其光催化活性

• 作者: 吴晓宏 李庆芬 石连升 秦伟
• 来源期刊: 哈尔滨工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 TiO2膜 光催化活性 电流密度
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 页码范围: 1919-1922
• 页数: 4页
• 分类号: TB174.45
• 字数: 1612字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0367-6234.2006.11.026

摘要

为提高钛表面原位生长TiO2膜层的光催化活性,研究了电流密度(3、5、10、15 A/dm2)对所得膜层光催化活性的影响.用SEM和XRD分析膜层表面形貌和结构,发现随着电流密度的增加,膜层微孔增多而且膜层中二氧化钛含量增多.用所得膜层光催化降解罗丹明B,发现当电流密度为10 A/dm2时,膜层具有较高的光催化活性,这归功于膜层比表面积增加,而且膜层是由以锐钛矿型为主晶相同时含有少量金红石型二氧化钛组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李庆芬	哈尔滨工程大学机电工程学院	106	1010	17.0	24.0
2	秦伟	哈尔滨工程大学机电工程学院	39	426	12.0	19.0
3	吴晓宏	哈尔滨工程大学机电工程学院	49	545	15.0	21.0
4	石连升	哈尔滨理工大学材料学院	23	103	5.0	9.0