电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

• 作者: 侯海虹 孙喜莲 易葵 申雁鸣 范正修 邵建达
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锆 表面粗糙度 标量散射 电子束蒸发
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3124-3127
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 3515字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.06.081

摘要

利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632.8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80-480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算,所得结果与测量结果相一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	侯海虹	中国科学院上海光学精密机械研究所	8	113	6.0	8.0
8	申雁鸣	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	95	5.0	6.0
12	孙喜莲	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	64	5.0	5.0