二丁基锡分子印迹聚合物的合成与性能研究

• 作者: 刘斌 周政 孙向英
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 分子印迹聚合物 二丁基锡 壳聚糖 吸附 选择性识别
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 页码范围: 1443-1447
• 页数: 5页
• 分类号: O657.32
• 字数: 3528字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2006.08.010

摘要

以壳聚糖(CTS)为基体,二丁基锡(DBT)为模板,采用分子印迹技术制备了在空间结构和结合位点上与DBT匹配的分子印迹聚合物(DBT-MIPs).研究了该分子印迹聚合物的合成条件、对DBT的吸附性能和选择识别能力,并对其结构进行了表征.结果表明,所合成的DBT-MIPs对DBT具有良好的吸附和选择识别能力,最大吸附量为178.6 μg/g.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘斌	华侨大学材料科学与工程学院	123	735	15.0	19.0
2	孙向英	华侨大学材料科学与工程学院	76	545	13.0	19.0
3	周政	华侨大学材料科学与工程学院	3	21	2.0	3.0