Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究

• 作者: 万红 吴学忠 徐超 李兆泽 李圣怡
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: PVD 薄膜 湿法刻蚀 台阶仪 扫描电镜 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳制造
• 页码范围: 1437-1440
• 页数: 4页
• 分类号: TH16
• 字数: 1820字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.033

摘要

通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照片.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴学忠	国防科技大学机电工程与自动化学院	70	934	18.0	28.0
2	李圣怡	国防科技大学机电工程与自动化学院	186	3101	27.0	44.0
3	万红	国防科技大学航天与材料工程学院	17	230	11.0	15.0
4	徐超	国防科技大学航天与材料工程学院	5	43	3.0	5.0
5	李兆泽	国防科技大学机电工程与自动化学院	2	38	2.0	2.0