硅材料及其电化学研究进展

• 作者: 何希 史训达 宋晓岚 杨海平 邱冠周
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅材料 电化学 电极反应 刻蚀 多孔硅
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 21-25
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 6963字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2006.02.006

摘要

硅材料是现代信息科技的主要载体,而其电化学研究则是正确认识和应用硅材料的前提和基础.从硅的表面和界面特性出发,综述了硅的电化学方面的研究进展,阐述了硅电极的阳极和阴极反应行为,总结了硅的刻蚀以及多孔硅的电化学形成机制和影响因素,并进一步展望了硅材料电化学研究的未来发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋晓岚	中南大学资源加工与生物工程学院无机材料系	75	1681	20.0	39.0
2	邱冠周	中南大学资源加工与生物工程学院无机材料系	335	5466	36.0	53.0
3	何希	中南大学资源加工与生物工程学院无机材料系	6	54	4.0	6.0
4	杨海平	中南大学资源加工与生物工程学院无机材料系	8	92	5.0	8.0
5	史训达	有研半导体材料股份有限公司硅片制造事业部	8	34	3.0	5.0