NiO-MoO3/SiO2光催化剂的结构与光吸收性能

• 作者: 孔令丽 钟顺和
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 表面改性法 复合半导体 三氧化钼 氧化镍 光吸收性能
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 页码范围: 1336-1339
• 页数: 4页
• 分类号: O643
• 字数: 3058字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2006.07.025

摘要

采用表面改性法制备了负载型复合半导体NiO-MoO3/SiO2, 用程序升温还原、 X射线衍射、拉曼光谱、透射电镜、比表面积测定和紫外-可见光漫反射光谱技术对固体材料的组成结构和光吸收性能进行了表征.结果表明, NiO-MoO3/SiO2的平均粒径约为10 nm, 在载体表面存在xNiO·MoO3复合氧化物的微晶, NiO和MoO3在固体材料表面产生相互修饰作用.NiO的加入有助于提高MoO3在载体SiO2表面的分散程度, 抑制MoOx的聚合, 减小微晶尺寸, 而且可以增强固体材料的光吸收性能, 提高复合半导体对光能的利用率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟顺和	天津大学化工学院	156	2360	26.0	39.0
2	孔令丽	天津大学化工学院	8	115	5.0	8.0