Cu掺杂对FexPt1-x薄膜有序化的影响

• 作者: 于广华 冯春 朱逢吾 李宝河 杨涛 滕蛟 翟中海
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: L10-FePt有序相 磁控溅射 有序度 Cu掺杂
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2567-2571
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2559字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.05.078

摘要

利用磁控溅射制备了薄膜厚度为50nm的系列(FexPt1-x)100-yCuy(x=0.46-0.56,y=0,0.04,0.12)样品.利用直流共溅射方法精确控制Fe和Pt的原子比.实验结果表明,当x＞0.52时,样品中添加Cu不能促进FePt的有序化,但是对于FePt化学原子定比或富Pt的样品,添加Cu可以促进FePt有序化,而且随着Fe含量的减少,需要更多的Cu添加才能实现较低温度下FePt薄膜的有序化.实验结果表明,原子比(FeCu)/Pt达到1.1-1.2的范围时,即可实现较低温度的有序化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宝河	北京科技大学材料物理系	43	158	6.0	9.0
3	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
4	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
5	滕蛟	北京科技大学材料物理系	37	132	6.0	9.0
8	杨涛	北京科技大学材料物理系	19	65	5.0	7.0
9	翟中海	北京科技大学材料物理系	9	23	3.0	4.0
11	冯春	北京科技大学材料物理系	18	55	5.0	6.0