不同淀积温度多晶硅纳米薄膜的压阻特性

• 作者: 刘晓为 张颍 揣荣岩 潘慧艳 王蔚
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多晶硅 纳米薄膜 压阻特性 淀积温度 应变系数
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 微型压力传感器
• 页码范围: 1810-1814
• 页数: 5页
• 分类号: O7
• 字数: 3901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.133

摘要

重掺杂多晶硅纳米薄膜具有较大的应变系数和良好的温度特性,是制作力学量传感器的理想压阻材料.为优化多晶硅纳米薄膜的压阻特性,就淀积温度对低压化学气相淀积多晶硅纳米薄膜的压阻特性的影响进行了实验研究.在扫描电镜观测和X射线衍射实验基础上,利用隧道压阻模型分析了薄膜结构和压阻特性的关系.结果表明薄膜结构对应变系数的影响非常显著,但对应变系数的温度特性影响却很小.综合淀积温度对压阻特性和电导特性的影响,多晶硅纳米薄膜的最佳淀积温度在620℃左右.