Si基铁电Bi3.15Nd0.85Ti3O12多层薄膜的一致取向生长和性能的研究

• 作者: 徐文广 李少珍 李美亚 赵兴中 魏建华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Bi3.15Nd0.85Ti3O12 铁电薄膜 多层异质结 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1472-1478
• 页数: 7页
• 分类号: O53
• 字数: 4627字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.03.080

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,利用LSCO/CeO2/YSZ多异质缓冲层,在Si(100)基片上成功地制备了c轴一致取向的Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT)铁电薄膜.利用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)分析测定了薄膜的相结构、取向和形貌特征,考察了沉积温度和氧分压对BNT薄膜微结构、取向和形貌的影响,确定了BNT薄膜的最佳沉积条件.对在优化的条件下制备得到的BNT薄膜的C-V曲线测试得到了典型的蝴蝶形曲线,表明该薄膜具有较好的电极化反转存储特性.最后讨论了BNT薄膜铁电性能与薄膜取向的相关性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵兴中	武汉大学物理科学与技术学院	35	134	6.0	10.0
5	李美亚	武汉大学物理科学与技术学院	29	85	5.0	6.0
9	李少珍	武汉大学物理科学与技术学院	3	5	2.0	2.0
10	徐文广	武汉大学物理科学与技术学院	3	5	2.0	2.0
11	魏建华	武汉大学物理科学与技术学院	5	21	2.0	4.0