HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究

• 作者: 丁毅 刘国汉 朱秀红 贺德衍 陈光华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 微波电子回旋共振化学气相沉积 氢化微晶硅薄膜 拉曼散射 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 6147-6151
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3181字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.11.096

摘要

用热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法制备出高晶化体积分数的氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜.拉曼散射和X射线衍射技术对样品的微观结构测量分析表明,当反应气体中SiH4浓度在3.6%-50%之间大范围变化时,μc-Si:H薄膜均具有高的晶化体积分数.进一步的分析表明,在SiH4浓度较大时制备的薄膜,其结构以非晶-微晶的过渡相为主.薄膜易于晶化或生长为过渡相的主要原因是微波电子回旋共振使SiH4气体高度分解,等离子体高度电离.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺德衍	兰州大学物理科学与技术学院	68	559	13.0	19.0
3	刘国汉	兰州大学物理科学与技术学院	38	342	10.0	16.0
5	陈光华	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	65	396	11.0	16.0
6	丁毅	兰州大学物理科学与技术学院	4	29	3.0	4.0
7	朱秀红	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	8	42	4.0	6.0