改性光刻胶制备纳米压印模版

• 作者: 唐为华 郭熹 郭艳峰 陈雷明
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米压印 光刻胶 聚焦离子束 纳米孔阵列
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 6511-6514
• 页数: 4页
• 分类号: O3
• 字数: 2287字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.054

摘要

制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的,但是这些材料比较难以加工,从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用,控制加工的条件,将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料,从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点,是一种新颖的加工方式,扩展了聚焦离子束的加工范围,可用于其他的纳米加工领域.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐为华	中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室	20	76	5.0	8.0
3	陈雷明	中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室	12	50	3.0	7.0
9	郭艳峰	中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室	4	5	2.0	2.0
10	郭熹	中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室	2	4	1.0	2.0