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摘要:
采用离子束增强沉积方法在Si和SiO2/Si衬底上制备In-N共掺杂ZnO薄膜(INZO),溅射靶是用ZnO和2 atm%In2O3粉体均匀混合并压制而成,在氩离子溅射ZnO靶的同时,氮、氩混合离子束垂直注入沉积的薄膜.实验结果显示INZO薄膜具有(002)的择优取向,并且为p型导电,电阻率最低为O.9Ωcm.薄膜在氮气、氧气气氛下退火,对薄膜的结构和电学特性与成膜和退火条件的关系进行了分析.
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文献信息
篇名 离子束增强沉积制备p型氧化锌薄膜及其机理研究
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 氧化锌薄膜 p型掺杂 离子束增强沉积
年,卷(期) 2006,(7) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 3581-3584
页数 4页 分类号 O4
字数 3157字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.07.063
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李金华 江苏工业学院功能材料实验室 33 277 9.0 15.0
2 谢建生 江苏工业学院功能材料实验室 9 68 4.0 8.0
3 袁宁一 江苏工业学院功能材料实验室 26 154 8.0 10.0
4 范利宁 江苏工业学院功能材料实验室 4 30 3.0 4.0
5 王秀琴 江苏工业学院功能材料实验室 6 23 4.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
氧化锌薄膜
p型掺杂
离子束增强沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
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