SrBi4Ti4O15铁电薄膜的制备工艺及薄膜生长机理研究

• 作者: 崔彩娥 徐廷献 黄平
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铁电薄膜 钛酸锶铋 逐层快速退火工艺 生长行为
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1464-1471
• 页数: 8页
• 分类号: O53
• 字数: 7374字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.03.079

摘要

以氯化锶,硝酸铋和钛酸丁酯为原料,柠檬酸为络合剂,乙二醇为交联剂,无水乙醇为钛酸丁酯的溶剂,盐酸为硝酸铋的溶剂,去离子水为氯化锶的溶剂,配制了稳定的SrBi4Ti4O15(SBTi)前驱液.采用溶胶凝胶工艺,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了a轴取向增强的SBTi铁电薄膜.研究了一次性晶化快速退火工艺、两层晶化快速退火工艺、逐层晶化快速退火工艺以及成膜次数对薄膜结晶性、微观结构和生长行为的影响.实验结果表明,逐层快速退火工艺可有效抑制焦绿石相的形成;随着涂覆次数的增加,薄膜的结晶性变好;由于SBTi晶体生长的各向异性及单层膜厚对晶体沿(119)方向生长的限制,随着涂覆次数的增加,SBTi薄膜(119)峰和(200)峰的强度逐渐增大,而(00l)峰的强度反而略有减小,从而使I(200)/I(119),I(200)/I(0010),I(119)/I(0010)逐渐增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔彩娥	太原理工大学理学院	48	459	12.0	20.0
2	黄平	太原理工大学理学院	9	74	5.0	8.0
4	徐廷献	天津大学材料学院先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	87	1193	20.0	30.0