对氟和铝表面反应的研究

• 作者: 冯伟
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: XPS 氢氧化氟铝 SEM
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 40-44,48
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.2+1
• 字数: 4111字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2007.04.011

摘要

X光电子分光镜(XPS)分析被用来界定和比较未接触铝表面、氧接触铝表面和氟接触铝表面的气体扩散器.未接触和氧接触样品铝表面会形成Al2O3,另一边,氟接触表面倾向生成氢氧化氟铝表层.从氢氧化氟铝表层的形成看上去,像是由原有的A12O3、氟和水蒸气共同反应产生的.扫描电镜(SEM)的显微照相则显示三种样品表面是光学相似的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯伟	上海交通大学微电子学院	7	35	2.0	5.0