铌基合金包埋渗法制备抗氧化硅化物涂层及其组织形成

• 作者: 姜嫄嫄 赵陆翔 郭喜平
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铌基合金 包埋渗 涂层 过渡层 互扩散区 反应动力学
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 596-601
• 页数: 6页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 3501字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2007.04.016

摘要

利用包埋渗法在铌基合金上制备抗氧化硅化物涂层,渗硅温度分别为1 050、1 150和1 250 ℃,渗硅时间分别为2、5、10、15和20 h.利用SEM、EDS和XRD等检测手段分析涂层的结构、元素分布及相组成等,并对涂层形成的反应机理及反应动力学进行讨论.结果表明:涂层的相组成为(Nb, X)Si2(X表示Ti, Cr, Hf和Al等元素);涂层具有双层结构,且上层较为致密;涂层与基体之间达到了冶金结合,通过扩散形成过渡层及互扩散区;在包埋渗温度分别为1 050、1 150和1 250 ℃时,涂层生长的动力学曲线均符合抛物线规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭喜平	西北工业大学凝固技术国家重点实验室	78	470	12.0	16.0
2	赵陆翔	西北工业大学凝固技术国家重点实验室	2	63	2.0	2.0
3	姜嫄嫄	西北工业大学凝固技术国家重点实验室	1	24	1.0	1.0