纵磁结构触头涡流的仿真分析

• 作者: 修士新 张敏
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 真空灭弧室 触头结构 涡流
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: TM241
• 字数: 1975字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.05.014

摘要

电弧熄灭后,真空触头间隙中的剩磁是由触头结构中各部分的涡流所产生的,其中主要是触头片中的涡流.本文利用有限元法对1/2匝和1/3匝纵磁结构触头在大开距下的涡流特性进行了仿真研究,对比分析了触头结构、开距以及触头片开槽方式等对涡流、纵向磁场滞后时间的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张敏	西安交通大学电气工程学院	73	333	10.0	15.0
2	修士新	西安交通大学电气工程学院	29	169	8.0	12.0