光致变色二芳烯掩膜及在近场光存储中的应用

• 作者: 佟庆笑 唐应武 张复实 牛丽红 石明
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 物理化学 光致变色 超分辨掩膜 超分辨率近场结构
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 204-208
• 页数: 5页
• 分类号: TQ57
• 字数: 2401字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2007.03.007

摘要

合成了在超分辨率近场结构(Super-RENS)存储方式中适合做掩膜层和记录层材料的两种全氟二芳烯,旋涂法制备了实验存储盘片,并进行了近场存储实验.初步的实验表明,光致变色二芳烯掩膜层可以缩小聚焦激光的直径,得到小尺寸记录信息.掩膜层中二芳烯的浓度,对近场存储结果影响很大,存在一个最佳浓度使记录光斑的尺寸减少到最小.