熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析

• 作者: 孙玉静 王树彬 田莳
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石膜 熔融稀土 抛光
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 326-329
• 页数: 4页
• 分类号: O485|TN305
• 字数: 2814字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2007.02.048

摘要

利用熔融稀土铈(Ce)对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究.详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响,获得了最佳抛光工艺.通过对抛光后金刚石膜表面的拉曼光谱(Raman)、俄歇能谱(AES)、扫描电镜(SEM)以及能谱(EDS)的分析,探讨了抛光机理.结果表明:该方法有很高的抛光速率,可达每小时数百微米.抛光后金刚石膜的Ra从10.845μm降低至0.6553μm.抛光的热处理工艺不但没有破坏金刚石表面的原始结构,而且由于铈对石墨的优先刻蚀,抛光后金刚石膜表面的石墨含量还大大减少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王树彬	北京航空航天大学材料科学与工程学院	18	160	7.0	12.0
2	田莳	北京航空航天大学材料科学与工程学院	28	415	11.0	20.0
3	孙玉静	北京航空航天大学材料科学与工程学院	12	57	4.0	7.0