调制周期对TaN/NbN纳米多层膜力学性能的影响

• 作者: 刘桐 张学华 曹猛 李德军 王明霞
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 TaN/NbN多层膜 调制周期 硬度
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 2870字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8192.2007.01.007

摘要

本研究选择钽和铌的氮化物作为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统制备TaN、NbN及-系列的TaN/NbN多层薄膜.通过XRD和纳米力学测试系统以及摩擦磨损仪分析了该体系合成以后的晶体结构,以及调制周期对机械性能的影响.结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为8.5 nm时,TaN/NbN多层膜达到最大硬度30 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量以及膜-基结合性能均达到最佳效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王明霞	天津师范大学物理与电子信息学院	15	45	5.0	5.0
2	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
3	刘桐	天津师范大学物理与电子信息学院	29	103	6.0	8.0
4	张学华	天津师范大学物理与电子信息学院	10	34	4.0	5.0
5	曹猛	天津师范大学物理与电子信息学院	12	36	5.0	5.0