基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理

• 作者: 巴音贺希格 李文昊 齐向东
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 全息光栅 光刻胶热熔法 离子束刻蚀 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2583字
• 语种: 中文

摘要

根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响.实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀.结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	李文昊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	35	144	7.0	11.0
6	齐向东	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	61	630	16.0	22.0