TiN/AlN纳米多层膜的调制周期及力学性能研究

• 作者: 代明江 候惠君 李洪武 林松盛 陈德军
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米多层膜 调制周期 非平衡反应磁控溅射 力学性能
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2343字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.04.013

摘要

采用一种新型的离子束辅助非平衡反应磁控溅射设备制备了TiN/AlN纳米多层复合膜.采用XRD衍射、TEM、显微硬度计和干涉显微镜对TiN/AlN纳米多层膜的微结构和力学性能进行了表征.结果表明:TiN/AlN多层膜有良好的周期;调制结构影响薄膜的择优取向,薄膜整体表现出硬度增强的效果,硬度随调制周期的变化而变化并在调制周期为7.5 nm时达到最大值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林松盛		45	332	11.0	14.0
2	代明江		52	458	13.0	18.0
3	李洪武		11	130	8.0	11.0
4	候惠君		4	48	3.0	4.0
5	陈德军		1	10	1.0	1.0