在r-Pcc-SiO2上缩醛酮和三甲基硅醚的氧化去保护基作用

• 作者: 益文
• 来源期刊: 试剂与精细化学品
• 学科: 工学
• 关键词: 保护基团 氧化 三甲基 硅醚 醛酮 合成反应 非水溶性 酸性介质
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 7-9
• 页数: 3页
• 分类号: TQ572.293

摘要

在有机化合物合成反应中，常甩到羰基团被保护的方法．在合成反应完成后再除去保护基团从而恢复羰基团成为该合成过程的重要一步．从已有的报看到，以往该步反应通常在水溶性酸性介质中或非水溶性酸性介质条件下将缩醛或缩酮进行氧一碳键断裂得到希望的羰基因．但这些方法有不少缺点，一是产率低，后处理过程冗长，另一是所用试剂常不易得到或本身不够稳定，因此使这些方法实际应用受到限制。