用常压化学气相沉积法制备SiO2/S复合涂层的研究

• 作者: 刘京雷 周建新 徐宏 戚学贵
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 常压化学气相沉积(APCVD) SiO2/S复合涂层 HP40合金
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 11-13
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2158字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2007.02.004

摘要

以二甲基二硫(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物,采用常压化学气相沉积法在HP40合金基体上成功制备了SiO2/S复合涂层.采用扫描电子显微镜(SEM)及其附带能谱仪(EDAX)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、Raman光谱等技术对涂层的形貌、元素成分、结构进行了表征,并对反应机理做了初步探讨.结果表明,SiO2/S复合涂层为无定形结构,主要由Si-O四面体的变形结构组成,S以S4及+4价状态与Si-O四面体的变形结构结合,涂层完整、致密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐宏	华东理工大学化工机械研究所	141	881	15.0	21.0
2	戚学贵	华东理工大学化工机械研究所	19	99	6.0	9.0
3	刘京雷	华东理工大学化工机械研究所	29	186	8.0	13.0
4	周建新	华东理工大学化工机械研究所	13	109	5.0	10.0