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摘要:
在W通孔的多层金属化系统中,金属离子的蓄水池效应对其电迁移寿命的影响很大,文中设计制作了12种不同的蓄水池结构,并进行了电迁移实验.着重考察蓄水池面积、通孔位置、通孔数目对互连线电迁移寿命的影响,得出蓄水池的面积是影响电迁移寿命的主要因素.
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文献信息
篇名 多层金属化系统中蓄水池效应对电迁移寿命的影响
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 互连线 蓄水池效应 电迁移
年,卷(期) 2007,(z1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 452-456
页数 5页 分类号 TN32
字数 3022字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.z1.115
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴月花 北京工业大学电子信息与控制工程学院 7 15 2.0 3.0
2 李志国 北京工业大学电子信息与控制工程学院 57 418 12.0 18.0
3 郭春生 北京工业大学电子信息与控制工程学院 44 302 10.0 15.0
4 李秀宇 北京工业大学电子信息与控制工程学院 5 8 2.0 2.0
传播情况
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1997(1)
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2007(0)
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研究主题发展历程
节点文献
互连线
蓄水池效应
电迁移
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
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8
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35317
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