碳钢基体磁控溅射SiC薄膜结合力研究

• 作者: 华戟云 张晔 邵红红 高建昌
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 SiC薄膜 结合力 Ni-P合金中间层
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 表面改性技术
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 2809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2007.02.013

摘要

采用磁控溅射法在T10钢表面获得了SiC薄膜,并研究了溅射方式、工艺参数以及中间层对薄膜结合性能的影响.试验结果表明,采用功率为200 W射频法和时间为2 h的SiC/Ni-P双层薄膜结合力最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵红红	江苏大学材料科学与工程学院	85	453	11.0	15.0
2	高建昌	江苏大学材料科学与工程学院	8	39	3.0	5.0
3	张晔	江苏大学材料科学与工程学院	12	45	4.0	6.0
4	华戟云	江苏大学材料科学与工程学院	4	28	3.0	4.0