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摘要:
采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了Cr-Cu-Al-Cr薄膜,用焊接法测试薄膜附着性能,用x射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和台阶仪对薄膜进行表征,研究溅射过程中以及在高温大气环境下薄膜的防氧化方法,分析薄膜晶粒大小与电性能关系,制备出性能较好的导电膜.
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文献信息
篇名 高性能导电薄膜的制备
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 附着性 氧化 晶粒 电学性能
年,卷(期) 2007,(3) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 24-27
页数 4页 分类号 TB43
字数 3092字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.03.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭太良 福州大学物理与通信工程学院 302 1102 15.0 21.0
2 张树人 福州大学物理与通信工程学院 2 5 1.0 2.0
3 陈国良 福州大学物理与通信工程学院 3 29 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
附着性
氧化
晶粒
电学性能
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期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898
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