SU-8光刻胶制作三维光子晶体

• 作者: 刘强 周崇喜 姚汉民 张晓玉 邢廷文 高洪涛
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: SU-8光刻胶 三维光子晶体 柱层析 尺寸排阻色谱法
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 微光学
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TP305
• 字数: 2537字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2007.08.007

摘要

针对SU-8光刻胶应用于三维光子晶体的制作研究,本文提出并实现了对SU-8光刻胶的重要成分SU-8环氧树脂采用柱层析和高压液相色谱-尺寸排阻色谱法进行分离,分离结果表明SU-8环氧树脂分子量分布范围很大,从大约100～100000,包括SU-1、SU-2、SU-4、SU-6、SU-8多种组分及其混合物.采用分离后的SU-8和SU-6纯组分配制了性能优化的SU-8光刻胶,并总结了其最佳光刻工艺,结合干涉光刻技术制作了晶格常数为922nm的三维面心立方光子晶体结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘强	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	235	4502	28.0	60.0
2	姚汉民		44	355	9.0	16.0
3	周崇喜	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	28	264	10.0	15.0
4	邢廷文	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	67	501	11.0	17.0
5	高洪涛	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	17	72	6.0	8.0
6	张晓玉	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	7	49	5.0	7.0