衬底温度和退火温度对磁控溅射TiNi合金薄膜组织结构的影响

• 作者: 井晓天 卢正欣 曹伟产 郑荣军 麻西群
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiNi薄膜 组织结构 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 75-78
• 页数: 4页
• 分类号: TG164.2
• 字数: 2627字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4710.2007.01.018

摘要

通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等测试方法研究了不同的衬底加热温度和不同晶化退火温度对磁控溅射法制备的TiNi薄膜组织结构的影响.结果表明:加热衬底可以降低薄膜的晶化温度,通过控制加热温度可以控制晶粒的大小,同时可有效抑制析出相的产生;非晶薄膜在晶化的同时伴随Ti3Ni4相的析出,随晶化温度的升高析出相在长大的同时数量也明显增多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	井晓天	西安理工大学材料科学与工程学院	95	1111	19.0	27.0
2	卢正欣	西安理工大学材料科学与工程学院	35	219	9.0	12.0
3	曹伟产	西安理工大学材料科学与工程学院	11	44	4.0	6.0
4	郑荣军	西安理工大学材料科学与工程学院	2	17	2.0	2.0
5	麻西群	西安理工大学材料科学与工程学院	4	10	2.0	3.0