反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能

• 作者: 吴昕蔚 吴莹 李广泽 李戈扬
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 反应磁控溅射 Ti(O,N)复合涂层 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444|TG174.45
• 字数: 2221字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2007.06.014

摘要

采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响.结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaCl结构.少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度.氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa.进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	吴莹	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	21	82	5.0	8.0
3	李广泽	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	2	16	2.0	2.0
4	吴昕蔚	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	2	9	2.0	2.0