MoS2/WS2共溅射复合薄膜的微结构及其摩擦磨损性能研究

• 作者: 何丹农 余震 尹桂林 涂江平 黄平华
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: MoS2 WS2 磁控溅射 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174|TH117.3
• 字数: 2057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2007.01.009

摘要

采用磁控溅射共溅射法制备MoS2/WS2复合润滑薄膜,利用X射线衍射仪、X射线能谱仪及透射电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析,采用UMT-2MT型微摩擦磨损试验机在大气(相对湿度45%～50%)和室温(20～25 ℃)环境下评价薄膜的摩擦磨损性能.结果表明,MoS2/WS2复合薄膜结构致密,具有较好抗氧化性,其耐磨寿命、摩擦稳定性和抗载荷能力比MoS2磁控溅射薄膜均有显著提高,而摩擦系数更低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何丹农	上海交通大学材料科学与工程学院	116	1094	18.0	28.0
2	涂江平	浙江大学材料科学与工程系	82	1603	23.0	38.0
3	余震	上海交通大学材料科学与工程学院	10	158	5.0	10.0
4	尹桂林	上海交通大学材料科学与工程学院	9	127	4.0	9.0
5	黄平华	上海交通大学材料科学与工程学院	3	52	2.0	3.0