氮化铝薄膜发光性能研究进展

• 作者: 佟洪波 巴德纯 肖金泉 闻立时
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: AlN薄膜 发光 TFEL器件
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 5729字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.02.006

摘要

介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法;综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状;对AlN薄膜发光性能的应用前景做了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯		250	1491	18.0	22.0
2	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
3	肖金泉	中国科学院金属研究所	21	112	7.0	10.0
4	佟洪波		10	75	6.0	8.0