新型等离子体磁控溅射技术

• 作者: 于德洋 于翔 刘阳 王成彪
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 中频磁控溅射 离子辅助溅射
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 表面改性技术
• 页码范围: 30-34
• 页数: 5页
• 分类号: TG1
• 字数: 2603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2007.02.008

摘要

介绍了等离子体磁控溅射原理和矩形磁控靶,探讨了几种新型等离子体非平衡磁控溅射技术,其中包括脉冲磁控溅射和离子辅助溅射,重点分析了工艺要点,并就存在的问题提出了解决思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘阳		5	95	5.0	5.0
2	于德洋		4	74	4.0	4.0
3	王成彪	中国地质大学工程技术学院	60	471	13.0	18.0
4	于翔	中国地质大学工程技术学院	15	140	8.0	11.0