热致NiOx薄膜的结构和光学性质变化

• 作者: 周莹 耿永友 顾冬红
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 光存储 NiOx薄膜 热分析 光学性质 微结构
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 125-129
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3623字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.01.023

摘要

利用直流磁控反应溅射技术制备了氧气和氩气的分压比为5:100的NiOx薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和光谱仪研究了热处理对薄膜的微观结构和光学性质的影响,并对沉积态薄膜的粉末进行了热分析.沉积态的NiOx薄膜在262℃时开始分解,导致NiOx薄膜的透过率增加和反射率降低.X射线衍射和示差扫描量热曲线(DSC)分析表明,在热处理过程中并无物相的变化,光学性质的变化是由于NiOx薄膜热分解引起薄膜表面形貌发生变化而引起的.通过Kissinger公式计算出热分解所需克服的活化能为230.46 kJ/mol,显示出很好的热稳定性.NiOx薄膜的热稳定性和热处理前后在波长为405 nm处高的反射率差值,使其很有可能成为可录蓝光光盘的记录介质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾冬红	中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储实验室	65	551	12.0	19.0
2	周莹	中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储实验室	22	191	7.0	13.0
3	耿永友	中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储实验室	15	99	4.0	9.0