PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究

• 作者: 李禾 杜楠 王应民 程国安 蔡莉
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: Si(111) ZnO薄膜 等离子增强化学气相沉积 反射光谱
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 71-75
• 页数: 5页
• 分类号: O472.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2007.11.017

摘要

使用薄膜分析系统研究在不同衬底温度下生长的硅基ZnO薄膜反射谱,了解衬底温度对薄膜的结晶状况影响.研究结果表明,随衬底温度的升高,晶粒之间融合长大,薄膜的折射率增大;在衬底温度450℃时生长的ZnO薄膜,薄膜的折射率最大为4.2,反射谱的吸收边更接近380nm,在520nm处有一个弱的吸收峰,与ZnO薄膜的PL谱测试结果一致.再升高衬底温度,晶粒会出现异常长大,晶粒排布将受到影响,导致薄膜折射率下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜楠	南昌航空大学材料科学与工程学院	96	969	17.0	25.0
2	蔡莉	南昌航空大学材料科学与工程学院	4	10	2.0	3.0
3	王应民	南昌航空大学材料科学与工程学院	11	41	4.0	6.0
7	李禾	南昌航空大学材料科学与工程学院	27	177	8.0	12.0
8	程国安	北京师范大学材料系	28	204	9.0	13.0