硅片纳米微粒清洗洁净新技术

• 作者: 严雪萍 刘德林 张慧 徐志春 成立 李俊 韩庆福
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅片 纳米微粒 电子回旋加速共振 清洗洁净技术
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 技术专栏
• 页码范围: 297-300
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 4478字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2007.04.006

摘要

随着半导体技术的不断发展,集成电路的线宽正在不断减小,对硅片表面质量处理的要求也就越来越高.传统的湿法清洗已经不能满足要求,故必须研发新的微粒清洗方法.简述了硅片表面污染物杂质的类型、传统的微粒湿法清洗法和干法清洗法,然后在此基础上分析了几种硅片制备工艺中纳米微粒的去除新技术,包括低温冷凝喷雾清洗工艺,N2O电子回旋加速共振等离子系统清洗技术,以及超细晶圆质量无危险的清洗方法等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张慧	江苏大学电气与信息工程学院	35	169	7.0	11.0
2	成立	江苏大学电气与信息工程学院	168	1567	21.0	32.0
3	韩庆福	江苏大学电气与信息工程学院	13	119	6.0	10.0
4	严雪萍	江苏大学电气与信息工程学院	12	97	5.0	9.0
5	刘德林	江苏大学电气与信息工程学院	8	68	5.0	8.0
6	徐志春	江苏大学电气与信息工程学院	8	74	5.0	8.0
7	李俊	江苏大学电气与信息工程学院	36	227	9.0	13.0