高纯铜溅射靶材的发展及现状

• 作者: 孙鹏 汪春平 禹泽海
• 来源期刊: 金川科技
• 关键词: 高纯铜 溅射靶材 现状 发展趋势
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 冶金化工产品研究
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等,也应用于玻璃镀膜领域和耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业.由于集成电路、信息存储及平面显示器等产业规模越来越大,这些高技术产业对各种超高纯金属及合金溅射靶材的需求也愈来愈多.本文简要介绍了高纯铜溅射靶材目前的市场情况、现状、应用领域和未来高纯铜溅射靶材发展趋势;并对高纯铜溅射靶材的特性要求以及微观组织控制做了简单的阐述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	禹泽海		2	18	1.0	2.0
2	孙鹏		3	18	1.0	3.0
3	汪春平		3	18	1.0	3.0