水质对UV/H2O2降解LAS的影响及机理

• 作者: 于龙 张阳 潘晶 王艳
• 来源期刊: 沈阳师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 水质 UV/H2O2 LAS 光降解
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 503-505
• 页数: 3页
• 分类号: TU991.25
• 字数: 2010字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5862.2007.04.025

摘要

研究了UV/H2O2工艺对LAS的去除效果以及水的pH、浊度对LAS降解的影响和机理. 结果表明: UV/H2O2工艺可以有效的去除水中LAS, 光降解过程符合一级反应动力学模型;在H2O2投加量为8 mg·L-1,14 W低压汞灯照射下, LAS在蒸馏水中光降解速率常数为0.018 1 min-1;在酸性条件下,有利于LAS光降解;浊度大于6NTU时,光降解速率常数迅速下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张阳	沈阳师范大学化学与生命科学学院	46	269	9.0	14.0
2	于龙	沈阳师范大学化学与生命科学学院	25	156	7.0	11.0
3	王艳	沈阳师范大学化学与生命科学学院	80	433	11.0	16.0
4	潘晶	沈阳师范大学化学与生命科学学院	39	304	11.0	15.0