高纯砷烷的合成与开发进展

• 作者: 于剑昆
• 来源期刊: 低温与特气
• 学科: 工学
• 关键词: 砷烷 掺杂剂 半导体工业 性质 合成 精制
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 16-21
• 页数: 6页
• 分类号: TQ126.4+2
• 字数: 5990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7804.2007.01.004

摘要

砷化氢(AsH3)是一种重要的电子特气,它主要用于N型半导体的掺杂、离子注入、化学气相沉积(CVD)等.AsH3的工业合成主要有化学合成法和电解合成法2种,后者可在恒定浓度条件下制备AsH3.为满足电子工业所需的高纯度需求,需要对其进行精制.AsH3的精制方法主要包括吸附法、低温冷冻/精馏法、膜分离法等,它们均能满足各自不同的需求.同时介绍了AsH3的国内外经济概况和产品标准.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于剑昆		86	542	13.0	17.0