PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究

• 作者: 唐桢安 徐军 李新 鲍海飞
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石膜 原子力显微镜 纳米摩擦 等离子源离子注入
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 1633字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.05.008

摘要

微机电系统(MEMS)的研究引起了人们的极大关注,摩擦行为是影响MEMS性能的关键因素之一.本文采用等离子源离子注入(PSII)技术在硅衬底上制备薄膜,利用Raman光谱表征制备薄膜的类金刚石特性.详细介绍了采用原子力显微镜(AFM)进行纳米摩擦实验的原理,并利用其研究制得DLC膜的纳米摩擦特性.研究结果表明,制得DLC膜的摩擦系数较小,具有耐磨损性能,而且反应气体流量对薄膜的纳米摩擦特性有较大影响.PSII技术制备的DLC膜具有较好的纳米摩擦特性,并有望使可动MEMS的摩擦问题得到真正意义上的突破.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲍海飞	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	21	31	3.0	5.0
2	李新		60	231	9.0	12.0
4	徐军		51	346	11.0	14.0
7	唐桢安		1	0	0.0	0.0