分步重复自动对准光刻工艺技术研究

• 作者: 张勇 李仁豪 杜合杰 蔡颖岚
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻机 自动对准 基准标记
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 87-89,138
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2007.01.024

摘要

介绍了投影光刻机的分步重复自动对准光刻系统,分析了其工作原理;从对准标记的设计、工艺与对准的关系两方面进行了论述,阐述了采用这类自动对准系统的光刻机可能遇到的工艺问题,并提出了相应的解决措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李仁豪		24	60	5.0	6.0
2	张勇		3	1	1.0	1.0
3	蔡颖岚		2	7	1.0	2.0
4	杜合杰		1	1	1.0	1.0